Разработку швейцарских ученых новой технологии воспроизведения микроструктур, возможно, будут использовать для относительно недорого, но быстрого производства как транзисторов, так и микрочипов. Данная технология основана на адаптированном методе динамической трафаретной литографии наноструктур, который в свою очередь также считается инновацией и перспективным, даже с учетом имеющихся погрешностей.

Сами принципы "трафаретной" техники при производстве структур наномасштаба не так и сложны, к примеру, кремниевая или пластиковая подложка помещается на испаритель, который в свою очередь создает на этой основе нужные структуры в соответствии с программой. И во время такого металлического испарения данный трафарет является маской, а материал, проходящий сквозь отверстия, превращается в основу для новых чипов или микросхем.

Благодаря такой системе появляется возможность производить очень сложные и многослойные подложки. Правда на сегодня точность такого "испарения" попросту не позволяет создать какие либо компоненты менее 100 нанометров. При этом дальнейшее развитие системы позволит ей имеет потенциал точности в 10-20 раз больше, с сохранением низкой себестоимости конечного продукта. оизводства микрочипов